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华为全新芯片制造技术可有效控制散热

日期:2023-08-13 09:11:10人气:10

导读:华为全新芯片制造技术可有效控制散热:公开号为CN113113367A的题为芯片、芯片制造方法和电子设备”的专利已于2020年1月申请,与芯片组中的散热技术有关。如专利所示,特定方法将控制硅芯片中的热扩散。该方法在两个相邻的硅芯片之间使用一个热块,它

公开号为CN113113367A的题为芯片、芯片制造方法和电子设备”的专利已于2020年1月申请,与芯片组中的散热技术有关。

如专利所示,特定方法将控制硅芯片中的热扩散。该方法在两个相邻的硅芯片之间使用一个热块,它传递两个芯片模块的热量。

该程序提高了芯片的散热能力,可以限制大量热量在硅芯片上膨胀并驱动芯片升温。

所描述的方法需要实现主体、多个硅芯片组和多个热块。该方法按如下所述的顺序工作。

布置:主体由若干个芯片组和散热块组成,它们绑定在壳体上。

过程: 在两个硅芯片模块之间放置一个热块,热块的表面负责控制芯片中产生的热量。

此外,华为还为芯片制造技术申请了专利,旨在降低啁啾频率。该方法需要Laser Chip主体、直调激光器(DML区)、Mach-Zehnder干涉仪(MZI滤波器区)和Isolation区。

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